パターン寸法測定方法及びそれに用いる荷電粒子線顕微鏡[ja]

被引：0

申请号：

JP20110538320

申请日：

2010-09-30

公开(公告)号：

JPWO2011052339A1

公开(公告)日：

2013-03-21

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G01B15/00

IPC分类号：

G01B15/04

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[41]

微細パターンの断面形状測定方法及びその装置[ja] [P].

日本专利 :JP5969915B2 ,2016-08-17

[42]

分析用担体及びそれを用いる測定方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006088192A1 ,2008-07-03

[43]

走査透過電子顕微鏡及びその収差測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6163063B2 ,2017-07-12

[44]

Ｘ線ＣＴ装置により得られる投影像を用いた寸法測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP7154535B2 ,2022-10-18

[45]

標的抗原の測定方法並びにそれに用いる不溶性粒子及び標的抗原測定用キット[ja] [P].

MAMBA MASAKO ;

OGASAWARA DAISUKE ;

YAMAMOTO KIMITAKA ;

ISHIKAWA HARUTO .

日本专利 :JP2024026911A ,2024-02-29

[46]

被測定物の測定方法およびそれに用いる測定デバイス[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014017431A1 ,2016-07-11

[47]

被測定物の測定方法およびそれに用いる測定デバイス[ja] [P].

日本专利 :JP5967202B2 ,2016-08-10

[48]

核酸測定用新規混合物、及びそれを用いる核酸の新規測定方法並びにそれらに用いる核酸プローブ[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005059548A1 ,2007-12-13

[49]

眼鏡用測定具、眼鏡用測定具セット及び眼鏡用測定具による測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP5766524B2 ,2015-08-19

[50]

荷電粒子線装置及び重ね合わせずれ量測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP5965819B2 ,2016-08-10

← 1 2 3 4 5 →