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スパッタリングターゲット、グラニュラ膜および垂直磁気記録媒体[ja]
被引：0
申请号：
JP20190555707
申请日：
2019-05-23
公开(公告)号：
JPWO2020031459A1
公开(公告)日：
2021-08-02
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C14/34
IPC分类号：
G11B5/64
G11B5/851
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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