レジスト組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20150521405

申请日：

2014-05-28

公开(公告)号：

JPWO2014196425A1

公开(公告)日：

2017-02-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/038 G03F7/20

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003007079A1 ,2004-11-04

[2]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022058580A ,2022-04-12

[3]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004042475A1 ,2006-03-09

[4]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002065212A1 ,2004-06-17

[5]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19

[6]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11

[7]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28

[8]

レジスト剥離用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002073319A1 ,2004-07-02

[9]

レジスト用化合物およびレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006132139A1 ,2009-01-08

[10]

フォトレジスト下層組成物[ja] [P].

ANTON CHAVEZ ;

KE YOUCHENG ;

YAMADA SHINTARO .

日本专利 :JP2024043506A ,2024-03-29

← 1 2 3 4 5 →