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レジスト組成物[ja]

被引：0
申请号：
JP20220003104
申请日：
2022-01-12
公开(公告)号：
JP2022058580A
公开(公告)日：
2022-04-12
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C07C309/06 C07C381/12 C08F30/08 G03F7/004
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014196425A1 ,2017-02-23
[2]
レジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2003007079A1 ,2004-11-04
[3]
レジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004042475A1 ,2006-03-09
[4]
レジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2002065212A1 ,2004-06-17
[5]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19
[6]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11
[7]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28
[8]
レジスト剥離用組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2002073319A1 ,2004-07-02
[9]
レジスト用化合物およびレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006132139A1 ,2009-01-08
[10]
フォトレジスト下層組成物[ja] [P]. 
ANTON CHAVEZ ;
KE YOUCHENG ;
YAMADA SHINTARO .
日本专利 :JP2024043506A ,2024-03-29
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