レジスト組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20040549625

申请日：

2003-11-06

公开(公告)号：

JPWO2004042475A1

公开(公告)日：

2006-03-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

C08F8/00 C08F8/02 C08F14/18 C08F16/02 C08F16/24 C08F36/16 G03C1/492 G03F7/004 H01L21/027

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002065212A1 ,2004-06-17

[2]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196425A1 ,2017-02-23

[3]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003007079A1 ,2004-11-04

[4]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022058580A ,2022-04-12

[5]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19

[6]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11

[7]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28

[8]

レジスト剥離用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002073319A1 ,2004-07-02

[9]

レジスト用化合物およびレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006132139A1 ,2009-01-08

[10]

フォトレジスト下層組成物[ja] [P].

ANTON CHAVEZ ;

KE YOUCHENG ;

YAMADA SHINTARO .

日本专利 :JP2024043506A ,2024-03-29

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