金属化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]

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申请号
JP20050516552
申请日
2004-11-09
公开(公告)号
JPWO2005063685A1
公开(公告)日
2007-07-19
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07C215/08
IPC分类号
C07F7/00 C23C16/18 C23C16/40 H01L21/316
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
金属化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006049059A1 ,2008-05-29
[2]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7730762B2 ,2025-08-28
[3]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7075891B2 ,2022-05-26
[4]
化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6811514B2 ,2021-01-13
[5]
金属化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P]. 
樱井淳 ;
山田直树 .
中国专利 :CN1898192A ,2007-01-17
[6]
金属化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P]. 
芳仲笃也 ;
樱井淳 .
中国专利 :CN101052615B ,2007-10-10
[7]