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光学顕微鏡、及び分光測定方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110054538
申请日
:
2011-03-11
公开(公告)号
:
JP5838466B2
公开(公告)日
:
2016-01-06
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B21/00
IPC分类号
:
G01N21/64
G01N21/65
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
顕微鏡システムおよび測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6249681B2
,2017-12-20
[42]
収差測定方法および電子顕微鏡[ja]
[P].
日本专利
:JP7267319B2
,2023-05-01
[43]
走査電子顕微鏡および測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6954848B2
,2021-10-27
[44]
共焦点顕微鏡、光学式高さ測定方法及び自動合焦方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002068903A1
,2004-06-24
[45]
分光測定システム及び分光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5970340B2
,2016-08-17
[46]
分光器及び測定方法[ja]
[P].
SUZUKI DAIKI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
SUZUKI DAIKI
;
MASE MITSUTO
论文数:
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引用数:
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机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
MASE MITSUTO
;
WARASHINA YOSHIHISA
论文数:
0
引用数:
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机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
WARASHINA YOSHIHISA
;
OGURI AKIHIRO
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0
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机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
OGURI AKIHIRO
;
EZUKA WATARU
论文数:
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机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
EZUKA WATARU
;
SUGIYAMA HAYATO
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
SUGIYAMA HAYATO
;
NOZAKI SHIN
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
HAMAMATSU PHOTONICS KK
HAMAMATSU PHOTONICS KK
NOZAKI SHIN
.
日本专利
:JP2025109443A
,2025-07-25
[47]
顕微鏡装置、顕微鏡装置の試料屈折率測定方法、および顕微鏡装置の試料屈折率測定プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP7380906B2
,2023-11-15
[48]
広がり抵抗測定方法及び広がり抵抗顕微鏡[ja]
[P].
日本专利
:JP6584113B2
,2019-10-02
[49]
力プローブ顕微鏡及び高さ分布測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014006734A1
,2016-06-02
[50]
走査プローブ顕微鏡、測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7129099B2
,2022-09-01
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