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スパッタリングターゲット、酸化物半導体膜及び半導体デバイス[ja]
被引：0
申请号：
JP20130080129
申请日：
2013-04-08
公开(公告)号：
JP5775900B2
公开(公告)日：
2015-09-09
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L29/786
IPC分类号：
C23C14/34
H01L21/20
H01L21/336
H01L21/363
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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