タンタル基焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]

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申请号
JP20120524521
申请日
2011-07-05
公开(公告)号
JPWO2012008334A1
公开(公告)日
2013-09-09
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
タングステン焼結体スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009147900A1 ,2011-10-27
[5]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017213185A1 ,2019-04-04
[6]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018173517A1 ,2020-01-23
[7]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017502166A ,2017-01-19
[8]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013145818A1 ,2015-12-10
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