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誘電体材料蒸発のためのプラズマ強化堆積設備、堆積装置及びその操作方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150548616
申请日
:
2013-12-20
公开(公告)号
:
JP6456841B2
公开(公告)日
:
2019-01-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/448
IPC分类号
:
C23C16/30
C23C16/50
H01M4/525
H01M10/0562
H01M10/0585
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
誘電体材料蒸発のためのプラズマ強化堆積設備、堆積装置及びその操作方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016507645A
,2016-03-10
[2]
誘電体材料の堆積方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7176106B2
,2022-11-21
[3]
誘電体材料の堆積方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022500867A
,2022-01-04
[4]
PVD誘電体堆積ための装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2018502224A
,2018-01-25
[5]
誘電体薄膜堆積のための変換器結合プラズマ源設計[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530452A
,2024-08-21
[6]
誘電体材料を堆積する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7374308B2
,2023-11-06
[7]
誘電体材料を堆積する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022549243A
,2022-11-24
[8]
強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020511796A
,2020-04-16
[9]
強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020511797A
,2020-04-16
[10]
強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6916297B2
,2021-08-11
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