共 50 条
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洗浄用液体組成物、半導体素子の洗浄方法、および半導体素子の製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20140521296
申请日：
2013-06-06
公开(公告)号：
JPWO2013187313A1
公开(公告)日：
2016-02-04
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D1/62
C11D3/04
C11D3/20
C11D3/26
C11D3/28
C11D3/34
C11D3/43
C11D17/08
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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