共 50 条
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半導体装置の洗浄方法、半導体装置の洗浄設備及び半導体洗浄用組成物[ja]
被引：0
申请号：
JP20250043995
申请日：
2025-03-18
公开(公告)号：
JP2025146774A
公开(公告)日：
2025-10-03
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/304
IPC分类号：
C11D7/10
C11D7/18
C11D7/36
H01L21/306
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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