半導体構造体の剥離および洗浄方法[ja]

被引:0
申请号
JP20240547490
申请日
2023-01-31
公开(公告)号
JP2025506486A
公开(公告)日
2025-03-11
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C11D1/00 C11D1/66 C11D1/72 C11D3/04 C11D3/20 H01L21/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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[6]
[7]
半導体素子の洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009147948A1 ,2011-10-27
[8]
半導体素子の洗浄液及び洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015166826A1 ,2017-04-20
[9]
構造体および構造体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005009891A1 ,2007-09-20
[10]
洗浄用組成物、半導体素子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008114616A1 ,2010-07-01