磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150516126

申请日：

2014-11-20

公开(公告)号：

JPWO2015080009A1

公开(公告)日：

2017-03-16

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F3/00 C22C19/07 C22C30/00 C22C38/00 H10N50/01 H10N50/10

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共 50 条

[1]

磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016140113A1 ,2017-06-29

[2]

スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022125041A ,2022-08-26

[3]

スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019176962A1 ,2021-02-12

[4]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[5]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018173517A1 ,2020-01-23

[6]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017502166A ,2017-01-19

[7]

スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017213185A1 ,2019-04-04

[8]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013145818A1 ,2015-12-10

[9]

磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011070860A1 ,2013-04-22

[10]

ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014156234A1 ,2017-02-16

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