磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja]

被引:0
申请号
JP20150517022
申请日
2014-04-30
公开(公告)号
JP5969120B2
公开(公告)日
2016-08-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
C22C5/04 C22C30/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 28 条
[1]
磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014185266A1 ,2017-02-23
[2]
強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013111706A1 ,2015-05-11
[4]
Fe−Pt−C系スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013046882A1 ,2015-03-26
[10]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013190943A1 ,2016-05-26