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磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150517022
申请日
:
2014-04-30
公开(公告)号
:
JP5969120B2
公开(公告)日
:
2016-08-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C22C5/04
C22C30/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 28 条
[1]
磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014185266A1
,2017-02-23
[2]
強磁性材スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013111706A1
,2015-05-11
[3]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019220675A1
,2021-07-15
[4]
Fe−Pt−C系スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013046882A1
,2015-03-26
[5]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6881643B2
,2021-06-02
[6]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6553755B2
,2019-07-31
[7]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017141557A1
,2018-10-18
[8]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6713489B2
,2020-06-24
[9]
磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017141558A1
,2018-10-11
[10]
磁気記録膜用スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013190943A1
,2016-05-26
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