用于衬底处理系统的喷头的下部

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN202230843044.6

申请日：

2022-12-16

公开(公告)号：

CN308748564S

公开(公告)日：

2024-07-23

发明(设计)人：

伊莱·乔恩丹尼尔·博特赖特菲利普·陈德博托什·波德达尔凯尔·瓦特·哈特道格拉斯·沃尔特·阿格纽卡什亚普·苏布拉马尼亚

申请人：

朗姆研究公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

23-01

IPC分类号：

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠;张华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-07-23	授权	授权

共 50 条

[1]

衬底处理系统、用于衬底处理系统的喷头和喷头组件 [P].

伊莱·乔恩 ;

丹尼尔·博特赖特 ;

菲利普·陈 ;

德博托什·波德达尔 ;

凯尔·瓦特·哈特 ;

道格拉斯·沃尔特·阿格纽 ;

卡什亚普·苏布拉马尼亚 .

中国专利 :CN218146933U ,2022-12-27

[2]

半导体衬底处理系统喷头 [P].

曼朱那塔·H·拉克什马纳 ;

肖恩·M·唐纳利 ;

柯蒂斯·W·贝利 ;

特洛伊·戈姆 .

美国专利 :CN309554942S ,2025-10-21

[3]

用于衬底处理系统的喷头 [P].

西蒙·陈 ;

拉维·帕马 ;

阿伦·库马尔·霍苏尔希瓦林格高达 ;

伦纳德·许 ;

闫仲伯 ;

维沙尔萨加尔·基茨 ;

阿斯温·阿加蒂亚·博查克拉瓦蒂 ;

巴晓兰 ;

拉夫·考希克 ;

孙太元 .

美国专利 :CN118900932A ,2024-11-05

[4]

衬底处理系统 [P].

崔贞姬 ;

金俸彻 ;

陶炯完 .

韩国专利 :CN117806125A ,2024-04-02

[5]

用于衬底处理系统的挡板 [P].

卡西克·阿达帕·萨提什 ;

科迪·巴奈特 ;

米塔利·姆里根德拉·巴萨吉 ;

拉维·库马尔 .

美国专利 :CN308504682S ,2024-03-12

[6]

半导体衬底处理系统的挡板 [P].

埃米尔·查尔斯·德拉佩 .

美国专利 :CN308659296S ,2024-05-28

[7]

衬底处理系统和用于操作衬底处理系统的方法 [P].

罗伟易 ;

洪延姬 ;

钟伟武 ;

希曼舒·乔克斯 .

美国专利 :CN112868084B ,2024-04-26

[8]

衬底处理系统和使用该衬底处理系统的衬底处理方法 [P].

朴相真 ;

朴智焕 ;

李根泽 .

韩国专利 :CN119275128A ,2025-01-07

[9]

用于衬底处理系统的喷头的杯状挡板 [P].

安德鲁·波尔斯 ;

康纳·查尔斯·阿尔库里 .

美国专利 :CN120188255A ,2025-06-20

[10]

衬底处理系统,和衬底处理方法 [P].

郭信生 ;

王开安 .

中国专利 :CN102122599A ,2011-07-13

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