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套刻标记结构、光罩、套刻标记方法及套刻偏移检测方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410585419.1
申请日：
2024-05-11
公开(公告)号：
CN118377195A
公开(公告)日：
2024-07-23
发明(设计)人：
石敦山
申请人：
重庆万国半导体科技有限公司
申请人地址：
400713 重庆市北碚区悦复大道288号
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
G03F1/42
G03F1/80
代理机构：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221
代理人：
刘念芝
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
重庆市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-08-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240511 |
| 2024-07-23 | 公开 | 公开 |