一种用于IGZO导电薄膜的草酸系蚀刻液添加剂、蚀刻液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410683562.4

申请日：

2024-05-30

公开(公告)号：

CN118580859A

公开(公告)日：

2024-09-03

发明(设计)人：

徐萍张伟

申请人：

江苏晶久微电子材料有限公司

申请人地址：

213000 江苏省常州市金坛区华洲路1号

IPC主分类号：

C09K13/00

IPC分类号：

C09K13/06

代理机构：

南京协行知识产权代理事务所(普通合伙) 32493

代理人：

蒋浩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09K 13/00申请日:20240530
2024-09-03	公开	公开

共 50 条

[1]

一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液添加剂、蚀刻液及其制备方法 [P].

徐萍 ;

张伟 .

中国专利 :CN117660964A ,2024-03-08

[2]

一种酸性蚀刻液添加剂及酸性蚀刻液 [P].

侯延辉 .

中国专利 :CN107747094B ,2018-03-02

[3]

蚀刻液添加剂、蚀刻液及其应用、蚀刻工艺 [P].

郁操 ;

董刚强 .

中国专利 :CN115161641B ,2024-06-11

[4]

一种IGZO薄膜蚀刻液 [P].

胡涛 ;

邢攸美 ;

李盈盈 ;

王小眉 ;

方伟华 ;

尹云舰 ;

施珂 .

中国专利 :CN113621373B ,2021-11-09

[5]

一种蚀刻添加剂及其制备方法与蚀刻液及应用 [P].

谢锡忠 ;

梁涛 ;

金依君 ;

梁益 .

中国专利 :CN119287370A ,2025-01-10

[6]

一种蚀刻添加剂及其制备方法与蚀刻液及应用 [P].

谢锡忠 ;

梁涛 ;

金依君 ;

梁益 .

中国专利 :CN119287370B ,2025-06-27

[7]

铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法 [P].

武岳 ;

周佑联 ;

周志超 .

中国专利 :CN105862040A ,2016-08-17

[8]

添加剂、添加剂分散液、蚀刻原料单元、添加剂供给装置、蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

村上友佳子 ;

平川雅章 ;

植松育生 .

中国专利 :CN110904503B ,2020-03-24

[9]

IGZO膜层的蚀刻液及其蚀刻方法 [P].

甘启明 .

中国专利 :CN107564809A ,2018-01-09

[10]

蚀刻液、添加剂及金属布线的制作方法 [P].

吴豪旭 ;

张月红 .

中国专利 :CN111155091A ,2020-05-15

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