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氮化钛膜的成膜方法和氮化钛膜的成膜装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210472341.3
申请日
:
2022-04-29
公开(公告)号
:
CN115323351B
公开(公告)日
:
2024-09-17
发明(设计)人
:
高桥毅
洪锡亨
樋口健介
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
C23C16/34
IPC分类号
:
C23C16/455
H01L21/02
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-09-17
授权
授权
共 50 条
[1]
氮化钛膜的成膜方法和氮化钛膜的成膜装置
[P].
高桥毅
论文数:
0
引用数:
0
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0
高桥毅
;
洪锡亨
论文数:
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0
洪锡亨
;
樋口健介
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0
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樋口健介
.
中国专利
:CN115323351A
,2022-11-11
[2]
氮化钛膜的成膜
[P].
村上诚志
论文数:
0
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0
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0
村上诚志
;
多田国弘
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多田国弘
.
中国专利
:CN1898410A
,2007-01-17
[3]
钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置
[P].
成嶋健索
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0
成嶋健索
;
熊谷晃
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熊谷晃
;
若林哲
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若林哲
.
中国专利
:CN101451234B
,2009-06-10
[4]
氮化膜的成膜方法及氮化膜的成膜装置
[P].
村上博纪
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0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
村上博纪
.
日本专利
:CN111424258B
,2024-01-23
[5]
氮化膜的成膜方法及氮化膜的成膜装置
[P].
村上博纪
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村上博纪
.
中国专利
:CN111424258A
,2020-07-17
[6]
氮化硼膜的成膜方法和成膜装置
[P].
后藤一希
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
后藤一希
;
加藤良裕
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤良裕
;
酒井宗一朗
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
酒井宗一朗
.
日本专利
:CN120119225A
,2025-06-10
[7]
氮化钛膜的形成方法和氮化钛膜的形成装置
[P].
两角友一朗
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两角友一朗
;
菱屋晋吾
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菱屋晋吾
;
原田豪繁
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0
原田豪繁
.
中国专利
:CN102655085A
,2012-09-05
[8]
氮化硅膜的成膜方法和成膜装置
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
高桥豊
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高桥豊
;
久保万身
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久保万身
.
中国专利
:CN109385626A
,2019-02-26
[9]
氮化硼膜的成膜方法和成膜装置
[P].
酒井宗一朗
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
酒井宗一朗
;
后藤一希
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
后藤一希
;
加藤良裕
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤良裕
.
日本专利
:CN120464983A
,2025-08-12
[10]
成膜方法和成膜装置
[P].
高桥毅
论文数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高桥毅
;
柿本明修
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
柿本明修
;
通口健介
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
通口健介
;
出野由和
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
出野由和
;
佐野正树
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐野正树
.
日本专利
:CN120659906A
,2025-09-16
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