レジスト組成物及びパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220189708

申请日：

2022-11-29

公开(公告)号：

JP2024077641A

公开(公告)日：

2024-06-10

发明(设计)人：

OHASHI MASAKI KATAYAMA KAZUHIRO YAMAHIRA TATSUYA OTOMO YUTARO OYAMA KOSUKE

申请人：

SHIN ETSU CHEM CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07D307/00 C07D333/76 C08F246/00 G03F7/039 G03F7/20

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015137485A1 ,2017-04-06

[2]

フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012111450A1 ,2014-07-03

[3]

重合体、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019181582A1 ,2021-04-01

[4]

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004059392A1 ,2006-04-27

[5]

ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004077158A1 ,2006-06-08

[6]

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法[ja] [P].

KOBAYASHI NAOKI ;

IWAMORI SHOHEI ;

KOORI DAISUKE ;

SATO HIRONORI .

日本专利 :JP2024174743A ,2024-12-17

[7]

感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018190088A1 ,2020-02-20

[8]

レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法[ja] [P].

ISHIWATA KENTA ;

KOORI DAISUKE ;

YANO TOSHIHARU ;

KOBAYASHI NAOKI ;

ARAIDA KEISUKE .

日本专利 :JP2025009348A ,2025-01-20

[9]

パターン形成用組成物及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018008481A1 ,2019-04-25

[10]

レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012049919A1 ,2014-02-24

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