一种光刻胶涂布设备及涂布方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411064064.8

申请日：

2024-08-05

公开(公告)号：

CN118988647A

公开(公告)日：

2024-11-22

发明(设计)人：

程双阳姜照育董延安

申请人：

厦门芯瓷科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市厦门火炬高新区(翔安)产业区翔星路88号台湾科技企业育成中心C106L室

IPC主分类号：

B05C1/12

IPC分类号：

B05C1/08 B05C11/02 B05D1/28

代理机构：

厦门呈睿知识产权代理有限公司 35298

代理人：

林贤德

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

江苏省常州市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-13	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):B05C 1/12变更事项:申请人变更前:厦门芯瓷科技有限公司变更后:厦门芯瓷科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:361000 福建省厦门市厦门火炬高新区(翔安)产业区翔星路88号台湾科技企业育成中心C106L室变更后:361000 福建省厦门市厦门火炬高新区石墨烯新材料产业园五显路866-10号203R室
2024-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B05C 1/12申请日:20240805
2024-11-22	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

崔栽荣 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

王桂磊 ;

白国斌 .

中国专利 :CN114690564A ,2022-07-01

[2]

光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

刘新 ;

李宗怿 ;

潘波 ;

朱贞颖 ;

江斐 ;

谢程阳 ;

王天玉 ;

张诺琦 .

中国专利 :CN121165397A ,2025-12-19

[3]

一种光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

张智勇 ;

李佳珍 ;

叶正豪 .

中国专利 :CN120306209A ,2025-07-15

[4]

光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114054287A ,2022-02-18

[5]

一种光刻胶涂布设备及涂布方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN110874018A ,2020-03-10

[6]

光刻胶涂布喷嘴及具有其的光刻胶涂布设备 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

李亭亭 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111739823A ,2020-10-02

[7]

一种光刻胶涂布设备 [P].

林高弘 .

中国专利 :CN221686815U ,2024-09-10

[8]

一种光刻胶涂布设备 [P].

杨彬 .

中国专利 :CN223426994U ,2025-10-10

[9]

一种光刻胶涂布设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208673043U ,2019-03-29

[10]

边缘涂布装置和光刻胶涂布设备 [P].

鲁泽 ;

李俊杰 ;

黄志凯 ;

叶日铨 .

中国专利 :CN208953888U ,2019-06-07

← 1 2 3 4 5 →