半导体压胶工装及半导体蚀刻设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202420834098.X
申请日
2024-04-22
公开(公告)号
CN222026114U
公开(公告)日
2024-11-19
发明(设计)人
邢大伟
申请人
深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司
申请人地址
518111 广东省深圳市龙岗区平湖街道山厦社区中环大道中科谷产业园D栋101
IPC主分类号
F16B11/00
IPC分类号
H01J37/32 H01L21/67
代理机构
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
张文超
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体蚀刻设备 [P]. 
姜东勋 .
中国专利 :CN111326444B ,2025-03-07
[2]
半导体蚀刻设备 [P]. 
姜东勋 .
中国专利 :CN111326444A ,2020-06-23
[3]
半导体工艺方法和半导体蚀刻设备 [P]. 
陈峰 ;
蔡东翰 ;
曾凡维 ;
陈勇树 .
中国专利 :CN115513135A ,2022-12-23
[4]
半导体蚀刻设备 [P]. 
章发明 .
中国专利 :CN115440558A ,2022-12-06
[5]
半导体结构的制造方法及半导体器件蚀刻设备 [P]. 
鲍锡飞 ;
周刘涛 .
中国专利 :CN113539818A ,2021-10-22
[6]
半导体结构的制造方法及半导体器件蚀刻设备 [P]. 
鲍锡飞 ;
周刘涛 .
中国专利 :CN113539818B ,2024-05-03
[7]
固定支架及半导体蚀刻设备 [P]. 
马晓 .
中国专利 :CN216279739U ,2022-04-12
[8]
连续式半导体蚀刻设备及蚀刻方法 [P]. 
张书省 ;
蔡嘉雄 ;
茹振宗 ;
刘仕伟 .
中国专利 :CN102610486A ,2012-07-25
[9]
半导体晶片蚀刻设备 [P]. 
黄建光 ;
吕亚明 ;
徐新华 ;
王磊 ;
陆基益 .
中国专利 :CN103137414B ,2013-06-05
[10]
半导体晶片蚀刻设备 [P]. 
黄建光 ;
吕亚明 ;
徐新华 ;
王磊 ;
陈基益 .
中国专利 :CN202352642U ,2012-07-25