一种磁控溅射镀膜装置及镀膜方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411596460.5

申请日：

2024-11-11

公开(公告)号：

CN119082689A

公开(公告)日：

2024-12-06

发明(设计)人：

黄晓旭曹端文张伟刚

申请人：

中国科学院赣江创新研究院

申请人地址：

341119 江西省赣州市科学院路1号

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/46 C30B25/06 C30B28/14

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

刘逸卿

法律状态：

公开

国省代码：

北京市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-06	公开	公开
2025-10-28	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C23C 14/35申请公布日:20241206
2024-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20241111

共 50 条

[1]

磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 [P].

钟真武 ;

于伟华 ;

郄丽曼 .

中国专利 :CN103498128B ,2014-01-08

[2]

一种中空磁控溅射阴极、磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 [P].

黄晓旭 ;

张伟刚 ;

曹端文 .

中国专利 :CN119121163B ,2025-02-25

[3]

一种中空磁控溅射阴极、磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 [P].

黄晓旭 ;

张伟刚 ;

曹端文 .

中国专利 :CN119121163A ,2024-12-13

[4]

磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 [P].

李龙哲 ;

周征华 ;

夏伟 ;

张亚芹 ;

朱小凤 ;

李花 .

中国专利 :CN113913768A ,2022-01-11

[5]

磁控溅射镀膜方法、镀膜产品及镀膜装置 [P].

李翔 ;

白展逢 ;

袁红霞 ;

姚俊 .

中国专利 :CN119663209A ,2025-03-21

[6]

一种磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 [P].

张绍璞 ;

范刚 ;

黄兴盛 ;

胡征宇 .

中国专利 :CN109898062A ,2019-06-18

[7]

磁控溅射镀膜装置 [P].

任远 ;

杜煦 ;

徐靖 ;

聂闯闯 ;

李衍辉 .

中国专利 :CN117604476A ,2024-02-27

[8]

磁控溅射镀膜装置 [P].

张春杰 .

中国专利 :CN103898462B ,2014-07-02

[9]

磁控溅射镀膜装置 [P].

祁文杰 ;

卢秋霞 ;

林佳继 .

中国专利 :CN222226532U ,2024-12-24

[10]

磁控溅射镀膜装置 [P].

王同舟 ;

孙欲晓 ;

乞英超 ;

罗有明 ;

李衍辉 .

中国专利 :CN221566300U ,2024-08-20

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