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CrSi薄膜电阻制备方法及CrSi薄膜电阻
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411321824.9
申请日
:
2024-09-23
公开(公告)号
:
CN118843391A
公开(公告)日
:
2024-10-25
发明(设计)人
:
陈茗岐
江剑
习艳军
申请人
:
粤芯半导体技术股份有限公司
申请人地址
:
510000 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
IPC主分类号
:
H10N97/00
IPC分类号
:
H01L21/67
代理机构
:
北京泽方誉航专利代理事务所(普通合伙) 11884
代理人
:
陈照辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
广东省 广州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-12
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10N 97/00申请日:20240923
2025-07-18
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):H10N 97/00申请公布日:20241025
2024-10-25
公开
公开
共 50 条
[1]
一种CrSi薄膜电阻制备方法及CrSi薄膜电阻
[P].
陈茗岐
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
粤芯半导体技术股份有限公司
粤芯半导体技术股份有限公司
陈茗岐
;
习艳军
论文数:
0
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0
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0
机构:
粤芯半导体技术股份有限公司
粤芯半导体技术股份有限公司
习艳军
.
中国专利
:CN120076346A
,2025-05-30
[2]
CrSi薄膜电阻制备方法、电阻器件制备方法及电阻器件
[P].
陈厚余
论文数:
0
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0
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
陈厚余
;
刘玉荣
论文数:
0
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0
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0
机构:
华南理工大学
华南理工大学
刘玉荣
;
李振文
论文数:
0
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0
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
李振文
;
张拥华
论文数:
0
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0
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机构:
华南理工大学
华南理工大学
张拥华
.
中国专利
:CN119768045A
,2025-04-04
[3]
一种CrSi2薄膜电阻及其激光修调方法
[P].
杨小爱
论文数:
0
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0
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杨小爱
;
袁忠文
论文数:
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袁忠文
;
王勇
论文数:
0
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0
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0
王勇
.
中国专利
:CN109872853B
,2019-06-11
[4]
薄膜电阻材料、薄膜电阻及其制备方法
[P].
付治屯
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付治屯
;
刘德波
论文数:
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刘德波
;
彭勤卫
论文数:
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彭勤卫
.
中国专利
:CN104711455A
,2015-06-17
[5]
薄膜电阻的制造方法和薄膜电阻
[P].
余梦霖
论文数:
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余梦霖
;
肖金玉
论文数:
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肖金玉
;
张华刚
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张华刚
;
李琳
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0
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李琳
.
中国专利
:CN111009512A
,2020-04-14
[6]
薄膜电阻层制备方法
[P].
邱正中
论文数:
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邱正中
;
卢契佑
论文数:
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卢契佑
.
中国专利
:CN113445012A
,2021-09-28
[7]
用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻
[P].
孙蓉
论文数:
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孙蓉
;
苏星松
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0
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苏星松
;
符显珠
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0
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符显珠
;
郭慧子
论文数:
0
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0
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郭慧子
.
中国专利
:CN103484840B
,2014-01-01
[8]
金属薄膜电阻及其制备方法
[P].
林昭宏
论文数:
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机构:
重庆芯联微电子有限公司
重庆芯联微电子有限公司
林昭宏
;
黄仁德
论文数:
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机构:
重庆芯联微电子有限公司
重庆芯联微电子有限公司
黄仁德
.
中国专利
:CN119584552A
,2025-03-07
[9]
金属薄膜电阻及其制备方法
[P].
林昭宏
论文数:
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0
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机构:
重庆芯联微电子有限公司
重庆芯联微电子有限公司
林昭宏
;
黄仁德
论文数:
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0
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机构:
重庆芯联微电子有限公司
重庆芯联微电子有限公司
黄仁德
.
中国专利
:CN119584552B
,2025-11-07
[10]
薄膜电阻元件
[P].
邱正中
论文数:
0
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邱正中
;
卢契佑
论文数:
0
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0
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0
卢契佑
.
中国专利
:CN112992448A
,2021-06-18
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