CrSi薄膜电阻制备方法及CrSi薄膜电阻

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专利类型
发明
申请号
CN202411321824.9
申请日
2024-09-23
公开(公告)号
CN118843391A
公开(公告)日
2024-10-25
发明(设计)人
陈茗岐 江剑 习艳军
申请人
粤芯半导体技术股份有限公司
申请人地址
510000 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
IPC主分类号
H10N97/00
IPC分类号
H01L21/67
代理机构
北京泽方誉航专利代理事务所(普通合伙) 11884
代理人
陈照辉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
广东省 广州市
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共 50 条
[1]
一种CrSi薄膜电阻制备方法及CrSi薄膜电阻 [P]. 
陈茗岐 ;
习艳军 .
中国专利 :CN120076346A ,2025-05-30
[2]
CrSi薄膜电阻制备方法、电阻器件制备方法及电阻器件 [P]. 
陈厚余 ;
刘玉荣 ;
李振文 ;
张拥华 .
中国专利 :CN119768045A ,2025-04-04
[3]
一种CrSi2薄膜电阻及其激光修调方法 [P]. 
杨小爱 ;
袁忠文 ;
王勇 .
中国专利 :CN109872853B ,2019-06-11
[4]
薄膜电阻材料、薄膜电阻及其制备方法 [P]. 
付治屯 ;
刘德波 ;
彭勤卫 .
中国专利 :CN104711455A ,2015-06-17
[5]
薄膜电阻的制造方法和薄膜电阻 [P]. 
余梦霖 ;
肖金玉 ;
张华刚 ;
李琳 .
中国专利 :CN111009512A ,2020-04-14
[6]
薄膜电阻层制备方法 [P]. 
邱正中 ;
卢契佑 .
中国专利 :CN113445012A ,2021-09-28
[7]
用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻 [P]. 
孙蓉 ;
苏星松 ;
符显珠 ;
郭慧子 .
中国专利 :CN103484840B ,2014-01-01
[8]
金属薄膜电阻及其制备方法 [P]. 
林昭宏 ;
黄仁德 .
中国专利 :CN119584552A ,2025-03-07
[9]
金属薄膜电阻及其制备方法 [P]. 
林昭宏 ;
黄仁德 .
中国专利 :CN119584552B ,2025-11-07
[10]
薄膜电阻元件 [P]. 
邱正中 ;
卢契佑 .
中国专利 :CN112992448A ,2021-06-18