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一种硅片刻蚀机的下料装置

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202421121346.2
申请日：
2024-05-21
公开(公告)号：
CN222300645U
公开(公告)日：
2025-01-03
发明(设计)人：
马胜南 马胜北
申请人：
南轩（天津）科技有限公司
申请人地址：
300000 天津市宝坻区京津中关村科技城曙光路1号
IPC主分类号：
H01L21/677
IPC分类号：
代理机构：
天津煜博知识产权代理事务所(普通合伙) 12246
代理人：
任冠娉
法律状态：
授权
国省代码：
天津市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-03 授权 授权
共 50 条
[1]
硅片刻蚀装置 [P]. 
赵莉珍 ;
何刚 .
中国专利 :CN220341181U ,2024-01-12
[2]
硅片刻蚀装置 [P]. 
吴佳俊 .
中国专利 :CN214624988U ,2021-11-05
[3]
一种硅片刻蚀装置 [P]. 
程瑜 ;
李立腾 ;
李坚毅 .
中国专利 :CN221812085U ,2024-10-08
[4]
一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机 [P]. 
杨金鑫 ;
谢凤兰 ;
唐正海 ;
刘燕 .
中国专利 :CN210516685U ,2020-05-12
[5]
硅片刻蚀承载结构、硅片刻蚀装置、DOSD测试设备 [P]. 
衡鹏 .
中国专利 :CN211957617U ,2020-11-17
[6]
一种硅片刻蚀液、硅片刻蚀方法及硅片 [P]. 
高祎璠 ;
刘恒 ;
郑学恒 ;
路浩通 .
中国专利 :CN119529845A ,2025-02-28
[7]
硅片刻蚀装置 [P]. 
吴佳俊 .
中国专利 :CN113161266B ,2025-08-22
[8]
硅片刻蚀装置 [P]. 
吴佳俊 .
中国专利 :CN113161266A ,2021-07-23
[9]
一种硅片刻蚀方法及硅片刻蚀系统 [P]. 
袁陨来 ;
吴帅 ;
张鹏程 ;
王建波 ;
吕俊 .
中国专利 :CN114724942A ,2022-07-08
[10]
硅片刻蚀清洗下片机 [P]. 
董晓清 ;
杜广亮 .
中国专利 :CN207909851U ,2018-09-25
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