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半导体器件和制造半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011263835.8
申请日
:
2020-11-12
公开(公告)号
:
CN113130326B
公开(公告)日
:
2025-01-10
发明(设计)人
:
褚志彪
李明洋
李连忠
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L21/34
IPC分类号
:
H10D62/13
H10D64/23
H10D84/83
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-01-10
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
褚志彪
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褚志彪
;
李明洋
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李明洋
;
李连忠
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李连忠
.
中国专利
:CN113130326A
,2021-07-16
[2]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
山田敦史
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山田敦史
;
温井健司
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温井健司
.
中国专利
:CN103715084A
,2014-04-09
[3]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
黑泽直人
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黑泽直人
.
中国专利
:CN101752301A
,2010-06-23
[4]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
谢瑞夫
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
谢瑞夫
;
廖志腾
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
廖志腾
;
陈志山
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈志山
;
陈臆仁
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈臆仁
;
翁子展
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
翁子展
.
中国专利
:CN113206042B
,2024-03-26
[5]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
矶部敦生
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矶部敦生
;
村上智史
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村上智史
;
山崎舜平
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山崎舜平
.
中国专利
:CN1855399A
,2006-11-01
[6]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
崔庆寅
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崔庆寅
;
崔成贤
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崔成贤
;
卓容奭
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卓容奭
;
具本荣
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具本荣
;
韩在钟
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韩在钟
.
中国专利
:CN110164956B
,2019-08-23
[7]
半导体器件的制造方法和半导体器件
[P].
寺本章伸
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寺本章伸
;
神林宏
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神林宏
;
上田博一
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上田博一
;
两角友一朗
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两角友一朗
;
原田豪繁
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原田豪繁
;
长谷部一秀
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长谷部一秀
;
大见忠弘
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大见忠弘
.
中国专利
:CN103339733A
,2013-10-02
[8]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
崔庆寅
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崔庆寅
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崔成贤
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崔成贤
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卓容奭
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卓容奭
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具本荣
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具本荣
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韩在钟
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韩在钟
.
中国专利
:CN104637820A
,2015-05-20
[9]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
谢瑞夫
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谢瑞夫
;
廖志腾
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廖志腾
;
陈志山
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陈志山
;
陈臆仁
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陈臆仁
;
翁子展
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翁子展
.
中国专利
:CN113206042A
,2021-08-03
[10]
半导体器件的制造方法和半导体器件
[P].
野口纯司
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野口纯司
;
滨田直秀
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滨田直秀
.
中国专利
:CN1417852A
,2003-05-14
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