一种基于磷酸-磷酸二氢钠缓冲液体系的碳化硅抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411185245.6

申请日：

2024-08-27

公开(公告)号：

CN119286401A

公开(公告)日：

2025-01-10

发明(设计)人：

贺兆波常希文叶瑞张庭罗月邹哲敏冯凯崔会东

申请人：

湖北兴福电子材料股份有限公司

申请人地址：

443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

H01L21/306

代理机构：

宜昌市三峡专利事务所 42103

代理人：

蒋悦

法律状态：

公开

国省代码：

湖北省宜昌市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-10	公开	公开
2025-01-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20240827

共 50 条

[1]

一种碳化硅晶片的抛光液 [P].

詹琳 .

中国专利 :CN105647393A ,2016-06-08

[2]

一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液 [P].

王家雄 .

中国专利 :CN111234705A ,2020-06-05

[3]

一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法 [P].

倪自丰 ;

滕康 ;

陈国美 ;

白亚雯 .

中国专利 :CN107129762A ,2017-09-05

[4]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731B ,2024-07-19

[5]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731A ,2024-05-28

[6]

一种抛光液及碳化硅的加工方法 [P].

郝唯佑 ;

翟虎 ;

林宏达 ;

孙金梅 .

中国专利 :CN117625046A ,2024-03-01

[7]

离子液体‑磷酸氢钠缓冲液双水相体系的制备方法及应用 [P].

李辉 ;

龚梦婷 ;

黄信慧 ;

宋俊杰 .

中国专利 :CN107880019A ,2018-04-06

[8]

一种高质量碳化硅抛光液及碳化硅晶圆 [P].

陈晓青 .

中国专利 :CN118497877A ,2024-08-16

[9]

一种碳化硅衬底用抛光液及其制备方法 [P].

张成荣 ;

刘江华 ;

刘冠华 ;

彭勇 ;

朱生凯 .

中国专利 :CN120966369A ,2025-11-18

[10]

一种碳化硅抛光液及其制备方法和应用 [P].

刘卫丽 ;

宋志棠 .

中国专利 :CN118995055A ,2024-11-22

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