用于化学气相沉积的材料、膜生产方法和膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380041146.8

申请日：

2023-06-01

公开(公告)号：

CN119234053A

公开(公告)日：

2024-12-31

发明(设计)人：

上村直 J·格里尔克里斯均·杜萨拉特

申请人：

乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司

申请人地址：

法国巴黎

IPC主分类号：

C23C16/18

IPC分类号：

C07C31/38 C07F1/02 C23C16/455

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马爽;刘芳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-31	公开	公开
2025-07-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/18申请日:20230601

共 50 条

[1]

用于沉积膜的化学气相沉积炉 [P].

D.皮埃罗 ;

W.科内鹏 ;

A.克拉弗 ;

L.吉迪拉 ;

M.马利亚诺 ;

T.G.M.奥斯特拉肯 ;

H.特霍斯特 ;

B.琼布罗德 ;

S.帕鲁伊 .

中国专利 :CN115537771A ,2022-12-30

[2]

化学气相沉积膜层的返工方法 [P].

林永顺 ;

昂开渠 ;

李光磊 .

中国专利 :CN118957531A ,2024-11-15

[3]

化学气相沉积法用材料和含硅绝缘膜及其制造方法 [P].

中川恭志 ;

野边洋平 ;

郑康巨 ;

齐藤隆一 ;

小久保辉一 .

中国专利 :CN101939465A ,2011-01-05

[4]

化学气相沉积成膜用组合物及生产低介电常数膜的方法 [P].

熊田辉彦 ;

信时英治 ;

保田直纪 ;

山本哲也 ;

中谷泰隆 ;

神山卓也 .

中国专利 :CN101310038A ,2008-11-19

[5]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[6]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[7]

化学气相沉积设备及成膜方法 [P].

谢锐 .

中国专利 :CN107779845A ,2018-03-09

[8]

化学气相沉积设备及成膜方法 [P].

邢升阳 .

中国专利 :CN107937886A ,2018-04-20

[9]

用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置 [P].

姜勇 ;

汪国元 .

中国专利 :CN211570766U ,2020-09-25

[10]

用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置 [P].

姜勇 ;

汪国元 .

中国专利 :CN113122825B ,2025-09-09

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