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湿法蚀刻设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910831544.5
申请日：
2019-09-04
公开(公告)号：
CN110875225B
公开(公告)日：
2024-12-17
发明(设计)人：
李轸雨
崔溶俊
金石训
辛承敃
车知勋
申请人：
三星电子株式会社
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
赵南;张青
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-12-17 | 授权 | 授权 |