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一种线性蒸发源单元及多蒸发源间隔蒸镀装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411513819.8
申请日
:
2024-10-29
公开(公告)号
:
CN119040811B
公开(公告)日
:
2025-02-18
发明(设计)人
:
杨一新
申请人
:
季华实验室
申请人地址
:
528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
IPC主分类号
:
C23C14/24
IPC分类号
:
C23C14/12
H10K71/16
代理机构
:
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268
代理人
:
王永文
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-17
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/24申请日:20241029
2024-11-29
公开
公开
2025-02-18
授权
授权
共 50 条
[1]
一种线性蒸发源单元及多蒸发源间隔蒸镀装置
[P].
杨一新
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
季华实验室
季华实验室
杨一新
.
中国专利
:CN119040811A
,2024-11-29
[2]
线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置
[P].
王卫卫
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0
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0
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0
王卫卫
;
李俊峰
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李俊峰
;
何麟
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0
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何麟
.
中国专利
:CN108754448A
,2018-11-06
[3]
一种线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置
[P].
张金中
论文数:
0
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0
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0
张金中
.
中国专利
:CN205443432U
,2016-08-10
[4]
蒸发源喷嘴、蒸发源装置及蒸镀设备
[P].
刘华猛
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0
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘华猛
;
文官印
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
文官印
;
李彦松
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李彦松
;
王蓓
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王蓓
;
王宇钊
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王宇钊
.
中国专利
:CN118256879A
,2024-06-28
[5]
一种蒸发源、组合蒸发源、蒸发源系统及蒸镀设备
[P].
裴凤巍
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裴凤巍
;
赵子仪
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赵子仪
;
张金中
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张金中
;
黄俊杰
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黄俊杰
.
中国专利
:CN208328091U
,2019-01-04
[6]
蒸发源及蒸镀装置
[P].
姜亮
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姜亮
.
中国专利
:CN104060227A
,2014-09-24
[7]
蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置
[P].
林圣来
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林圣来
.
中国专利
:CN102031485A
,2011-04-27
[8]
蒸发源及蒸镀装置
[P].
峰川英明
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峰川英明
;
松浦宏育
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松浦宏育
;
矢崎秋夫
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矢崎秋夫
;
福田浩
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福田浩
;
三宅龙也
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0
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三宅龙也
.
中国专利
:CN102676999A
,2012-09-19
[9]
一种线性蒸发源及蒸镀装置
[P].
贾晓晨
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贾晓晨
;
雷东
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雷东
;
刘乐
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刘乐
;
张超
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张超
;
范超龙
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范超龙
.
中国专利
:CN108265267B
,2018-07-10
[10]
一种多蒸发源间隔蒸镀装置及镀膜方法
[P].
杨一新
论文数:
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机构:
季华实验室
季华实验室
杨一新
.
中国专利
:CN118064842A
,2024-05-24
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