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一种用于湿法刻蚀的带液滚轮及湿法刻蚀方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011054898.2
申请日
:
2020-09-28
公开(公告)号
:
CN112309913B
公开(公告)日
:
2025-01-21
发明(设计)人
:
卢林
陈斌
王云露
申请人
:
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
申请人地址
:
225009 江苏省扬州市经济开发区建华路1号
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
H01L21/306
H10F71/00
代理机构
:
北京天达知识产权代理事务所有限公司 11386
代理人
:
侯永帅
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 衡水市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-01-21
授权
授权
共 50 条
[1]
一种用于湿法刻蚀的带液滚轮及湿法刻蚀方法
[P].
卢林
论文数:
0
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卢林
;
陈斌
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陈斌
;
王云露
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王云露
.
中国专利
:CN112309913A
,2021-02-02
[2]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
刘哲准
论文数:
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引用数:
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机构:
长鑫存储技术有限公司
长鑫存储技术有限公司
刘哲准
.
中国专利
:CN118352261A
,2024-07-16
[3]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
陆丛希
论文数:
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0
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0
机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陆丛希
.
中国专利
:CN121149048A
,2025-12-16
[4]
湿法刻蚀系统及湿法刻蚀方法
[P].
薛大鹏
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薛大鹏
.
中国专利
:CN106653659A
,2017-05-10
[5]
湿法刻蚀方法及湿法刻蚀装置
[P].
郝晓波
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0
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郝晓波
.
中国专利
:CN103606518B
,2014-02-26
[6]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘晓伟
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刘晓伟
;
刘耀
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刘耀
;
郭总杰
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郭总杰
.
中国专利
:CN104018158A
,2014-09-03
[7]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
薛大鹏
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薛大鹏
.
中国专利
:CN105742213B
,2016-07-06
[8]
一种湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
褚海波
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褚海波
.
中国专利
:CN110364421B
,2019-10-22
[9]
湿法刻蚀系统、湿法刻蚀方法
[P].
姚嫦娲
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姚嫦娲
.
中国专利
:CN103985660B
,2014-08-13
[10]
一种湿法刻蚀方法及湿法刻蚀设备
[P].
陈会敏
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
陈会敏
;
邱杰振
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
邱杰振
;
田锋
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
田锋
.
中国专利
:CN120656953A
,2025-09-16
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