一种控制湿法刻蚀形貌的方法

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专利类型
发明
申请号
CN202411568012.4
申请日
2024-11-05
公开(公告)号
CN119480636A
公开(公告)日
2025-02-18
发明(设计)人
牛科研 雷嘉成 郭德霄
申请人
上海新微半导体有限公司
申请人地址
200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区飞渡路2020号
IPC主分类号
H01L21/311
IPC分类号
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
余明伟
法律状态
实质审查的生效
国省代码
上海市
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共 50 条
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