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一种化学机械抛光用高纯度硅溶胶及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411443512.5
申请日
:
2024-10-16
公开(公告)号
:
CN119330358A
公开(公告)日
:
2025-01-21
发明(设计)人
:
陈新强
陈米
申请人
:
云浮科凝新材料科技有限公司
申请人地址
:
527124 广东省云浮市郁南县大湾镇郁南产业转移工业园办公室三楼320室
IPC主分类号
:
C01B33/145
IPC分类号
:
B82Y40/00
C09G1/02
代理机构
:
佛山粤进知识产权代理事务所(普通合伙) 44463
代理人
:
耿鹏
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-14
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C01B 33/145申请日:20241016
2025-05-30
授权
授权
2025-01-21
公开
公开
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光用高纯度硅溶胶及其制备方法
[P].
陈新强
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
云浮科凝新材料科技有限公司
云浮科凝新材料科技有限公司
陈新强
;
陈米
论文数:
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机构:
云浮科凝新材料科技有限公司
云浮科凝新材料科技有限公司
陈米
.
中国专利
:CN119330358B
,2025-05-30
[2]
一种化学机械抛光用硅溶胶及其制备方法与应用
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
康文兵
;
孔慧停
论文数:
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机构:
山东大学
山东大学
孔慧停
;
论文数:
引用数:
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机构:
陈欢
;
论文数:
引用数:
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机构:
王海花
;
论文数:
引用数:
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机构:
闫正
.
中国专利
:CN115924922B
,2024-11-19
[3]
化学机械抛光用双分散硅溶胶及其制备方法和应用
[P].
高念
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
高念
;
李小龙
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0
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
李小龙
;
周航
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
周航
;
欧阳广成
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
欧阳广成
;
刘子龙
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
刘子龙
;
肖桂林
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机构:
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司
肖桂林
.
中国专利
:CN119797377A
,2025-04-11
[4]
化学机械抛光用浆料
[P].
崔银美
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崔银美
;
申东穆
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申东穆
;
曹升范
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曹升范
.
中国专利
:CN102414293B
,2012-04-11
[5]
一种化学机械抛光用磨料及其制备方法
[P].
汪海波
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汪海波
;
刘卫丽
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刘卫丽
;
宋志棠
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宋志棠
;
封松林
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封松林
.
中国专利
:CN101372560B
,2009-02-25
[6]
化学机械抛光用抛光垫的制备方法
[P].
陈平
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陈平
;
李俊燕
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李俊燕
;
康仁科
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康仁科
.
中国专利
:CN1739915A
,2006-03-01
[7]
化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法
[P].
申东穆
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申东穆
;
崔银美
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崔银美
;
曹昇范
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曹昇范
;
河贤哲
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河贤哲
.
中国专利
:CN101679810B
,2010-03-24
[8]
一种化学机械抛光用液
[P].
赵明贵
论文数:
0
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0
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赵明贵
.
中国专利
:CN104371548A
,2015-02-25
[9]
一种化学机械抛光用液
[P].
谭志恒
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谭志恒
.
中国专利
:CN111040638A
,2020-04-21
[10]
一种化学机械抛光液用硅溶胶及其制备方法
[P].
左海珍
论文数:
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左海珍
.
中国专利
:CN109867290A
,2019-06-11
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