一种化学机械抛光用硅溶胶及其制备方法与应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310106131.7

申请日：

2023-02-13

公开(公告)号：

CN115924922B

公开(公告)日：

2024-11-19

发明(设计)人：

康文兵孔慧停陈欢王海花闫正

申请人：

山东大学

申请人地址：

250100 山东省济南市历城区山大南路27号

IPC主分类号：

C01B33/141

IPC分类号：

C09G1/02 B82Y40/00

代理机构：

济南金迪知识产权代理有限公司 37219

代理人：

王素平

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-19	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光用双分散硅溶胶及其制备方法和应用 [P].

高念 ;

李小龙 ;

周航 ;

欧阳广成 ;

刘子龙 ;

肖桂林 .

中国专利 :CN119797377A ,2025-04-11

[2]

一种化学机械抛光用高纯度硅溶胶及其制备方法 [P].

陈新强 ;

陈米 .

中国专利 :CN119330358B ,2025-05-30

[3]

一种化学机械抛光用高纯度硅溶胶及其制备方法 [P].

陈新强 ;

陈米 .

中国专利 :CN119330358A ,2025-01-21

[4]

一种化学机械抛光用二氧化硅及其制备方法和应用 [P].

秦冬霞 ;

司徒粤 ;

黄丹 ;

程翔 ;

梁少彬 .

中国专利 :CN114560468B ,2022-05-31

[5]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[6]

一种化学机械抛光用磨料及其制备方法 [P].

汪海波 ;

刘卫丽 ;

宋志棠 ;

封松林 .

中国专利 :CN101372560B ,2009-02-25

[7]

化学机械抛光用抛光垫的制备方法 [P].

陈平 ;

李俊燕 ;

康仁科 .

中国专利 :CN1739915A ,2006-03-01

[8]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[9]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[10]

一种化学机械抛光用液 [P].

赵明贵 .

中国专利 :CN104371548A ,2015-02-25

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