光致抗蚀剂剥离剂组合物和用于形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411126767.9

申请日：

2024-08-16

公开(公告)号：

CN119493347A

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

朴圭淳金荣绿金善正梁蕙林李钟淳全炳宇郑钟铉曹雨辰

申请人：

三星显示有限公司 LTC股份有限公司

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;冯志云

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-21	公开	公开

共 50 条

[1]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴泰文 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

李贤濬 ;

金周永 .

中国专利 :CN105556392B ,2016-05-04

[2]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

宋贤宇 ;

孙成旼 ;

韩东一 ;

朴泰文 ;

李东勋 .

中国专利 :CN113138544A ,2021-07-20

[3]

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

宋贤宇 ;

孙成旼 ;

韩东一 ;

朴泰文 ;

李东勋 .

韩国专利 :CN113138544B ,2024-09-13

[4]

用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用其的光致抗蚀剂的剥离方法 [P].

李佑然 ;

郑大哲 ;

李东勋 ;

朴泰文 .

中国专利 :CN104903794B ,2015-09-09

[5]

光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法 [P].

安江秀国 .

中国专利 :CN102124414A ,2011-07-13

[6]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10

[7]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695B ,2025-06-06

[8]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

何俊智 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN111007695A ,2020-04-14

[9]

用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

朴珉春 ;

闵盛晙 ;

金璟晙 ;

韩熙 ;

高完熙 .

中国专利 :CN101750917A ,2010-06-23

[10]

用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法 [P].

闵盛晙 ;

权赫俊 ;

朴珉春 .

中国专利 :CN101794087A ,2010-08-04

← 1 2 3 4 5 →