原子层沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421371243.1

申请日：

2024-06-14

公开(公告)号：

CN222631553U

公开(公告)日：

2025-03-18

发明(设计)人：

孙锋黄周师何坤鹏

申请人：

江苏先导微电子科技有限公司

申请人地址：

221116 江苏省徐州市高新技术产业开发区先导南路2号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/54

代理机构：

北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387

代理人：

张向琨

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省徐州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-18	授权	授权

共 50 条

[1]

原子层沉积方法以及原子层沉积系统 [P].

邵大立 ;

史皓然 ;

齐彪 ;

李宇晗 ;

陆淋康 ;

刘子婵 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN117265510B ,2024-02-27

[2]

原子层沉积装置及原子层沉积系统 [P].

曹生贤 .

中国专利 :CN106030848B ,2016-10-12

[3]

原子层沉积系统 [P].

郑文岸 ;

张光海 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN304993848S ,2019-01-11

[4]

原子层沉积系统 [P].

夏洋 ;

万军 .

中国专利 :CN104032280B ,2014-09-10

[5]

原子层沉积设备 [P].

维罗·鲁道夫·茨尔曼斯 ;

马丁·迪南特·比克尔 ;

厄恩斯特·杜勒麦格 ;

吉多·利耶斯特 .

中国专利 :CN107208267A ,2017-09-26

[6]

原子层沉积设备 [P].

赵雷超 ;

史小平 ;

兰云峰 ;

秦海丰 ;

纪红 ;

张文强 .

中国专利 :CN109576674B ,2019-04-05

[7]

原子层沉积装置 [P].

丁寅权 .

中国专利 :CN104488067A ,2015-04-01

[8]

原子层沉积镀膜系统 [P].

陈桉苡 ;

刘安徽 ;

黄俊凯 ;

叶昌鑫 ;

沈纬徵 ;

郑博鸿 .

中国专利 :CN118835217A ,2024-10-25

[9]

原子层沉积喷淋系统 [P].

闫晓晖 ;

周华 ;

聂翔宇 ;

江秋婷 .

中国专利 :CN119753639A ,2025-04-04

[10]

原子层沉积系统（1） [P].

吕树玲 ;

万军 ;

夏洋 ;

李超波 ;

陈波 .

中国专利 :CN301959904S ,2012-06-20

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