原子层沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811587575.2

申请日：

2018-12-25

公开(公告)号：

CN109576674B

公开(公告)日：

2019-04-05

发明(设计)人：

赵雷超史小平兰云峰秦海丰纪红张文强

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16448 C23C1634 C23C1644 C23C1652

代理机构：

北京成创同维知识产权代理有限公司 11449

代理人：

蔡纯;张靖琳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-13	授权	授权
2019-04-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20181225
2019-04-05	公开	公开

共 50 条

[1]

原子层沉积设备 [P].

孙锋 ;

黄周师 ;

何坤鹏 .

中国专利 :CN222631551U ,2025-03-18

[2]

原子层沉积设备 [P].

维罗·鲁道夫·茨尔曼斯 ;

马丁·迪南特·比克尔 ;

厄恩斯特·杜勒麦格 ;

吉多·利耶斯特 .

中国专利 :CN107208267A ,2017-09-26

[3]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

罗丹 ;

张华敏 ;

胡汉彦 .

中国专利 :CN222008035U ,2024-11-15

[4]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

刘海博 ;

陈培杰 ;

罗丹 ;

张华敏 ;

胡汉彦 .

中国专利 :CN222008037U ,2024-11-15

[5]

新型原子层沉积设备 [P].

陈宇林 ;

王东君 .

中国专利 :CN202193841U ,2012-04-18

[6]

原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P].

古尔特基·S·桑赫 ;

特鲁格·特里·多恩 .

中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26

[7]

原子层沉积设备 [P].

王祥慧 .

中国专利 :CN105463407A ,2016-04-06

[8]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

张华敏 ;

刘海博 ;

罗丹 .

中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27

[9]

原子层沉积设备 [P].

周友华 ;

庄国胜 .

中国专利 :CN106978599A ,2017-07-25

[10]

原子层沉积设备 [P].

杭天华 .

中国专利 :CN304842776S ,2018-10-09

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