化学气相沉积法用成膜助剂、化学气相沉积法用涂布液、金属氧化物膜及金属氧化物膜的成膜方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480003739.X

申请日：

2024-01-18

公开(公告)号：

CN119677894A

公开(公告)日：

2025-03-21

发明(设计)人：

佐藤享平藤村俊伸中里克己饭塚宗明

申请人：

日油株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C16/448

IPC分类号：

H01L21/31 H01L21/368

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

陈玉净;谢顺星

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/448申请日:20240118
2025-03-21	公开	公开

共 50 条

[1]

用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法 [P].

闵约赛 ;

曹永真 ;

李正贤 .

中国专利 :CN1234907C ,2003-10-15

[2]

金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法 [P].

三隅浩一 ;

C·科多尼尔 .

中国专利 :CN108884574A ,2018-11-23

[3]

掺锑的金属氧化物的化学气相沉积 [P].

M·P·小雷明顿 .

中国专利 :CN1263696C ,2004-09-22

[4]

金属氧化物被膜用涂布液以及金属氧化物被膜 [P].

江口和辉 ;

村梶庆太 ;

元山贤一 .

中国专利 :CN104583350B ,2015-04-29

[5]

金属氧化物被膜用涂布液的制造方法、金属氧化物被膜用涂布液以及金属氧化物被膜 [P].

江口和辉 ;

村梶庆太 ;

元山贤一 .

中国专利 :CN104011260A ,2014-08-27

[6]

金属氧化物被膜用涂布液以及金属氧化物被膜 [P].

村梶庆太 ;

江口和辉 ;

元山贤一 .

中国专利 :CN104204293A ,2014-12-10

[7]

用于沉积金属氧化物膜的方法 [P].

卡洛·塔利亚尼 ;

彼得·诺扎尔 .

中国专利 :CN101970709A ,2011-02-09

[8]

化学气相沉积成膜用组合物及生产低介电常数膜的方法 [P].

熊田辉彦 ;

信时英治 ;

保田直纪 ;

山本哲也 ;

中谷泰隆 ;

神山卓也 .

中国专利 :CN101310038A ,2008-11-19

[9]

化学气相沉积设备及成膜方法 [P].

谢锐 .

中国专利 :CN107779845A ,2018-03-09

[10]

化学气相沉积设备及成膜方法 [P].

邢升阳 .

中国专利 :CN107937886A ,2018-04-20

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