漏液检测装置及半导体清洗设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210903220.X

申请日：

2022-07-29

公开(公告)号：

CN115290263B

公开(公告)日：

2025-04-08

发明(设计)人：

邓曾红马宏帅

申请人：

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

G01M3/04

IPC分类号：

G01F23/00 G01F23/292 G12B9/04 H01L21/67

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;王婷

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-08	授权	授权

共 50 条

[1]

半导体清洗设备的检测装置以及半导体清洗设备 [P].

崔凯 ;

乔夫龙 ;

赵刘明 ;

张适杰 .

中国专利 :CN223390499U ,2025-09-26

[2]

进液装置及半导体清洗设备 [P].

杨树国 ;

张虎 ;

张明 .

中国专利 :CN113414165A ,2021-09-21

[3]

半导体清洗设备及其混液装置 [P].

赵益春 ;

韩国清 .

中国专利 :CN114893595A ,2022-08-12

[4]

半导体清洗护罩装置及半导体清洗设备 [P].

郭加龙 ;

宁卫龙 .

中国专利 :CN121103748A ,2025-12-12

[5]

一种用于半导体清洗设备的排液系统及半导体清洗设备 [P].

郑洪 ;

许璐 ;

赵宏宇 ;

陈忠明 ;

李欢 .

中国专利 :CN118782492A ,2024-10-15

[6]

用于半导体清洗设备的储液箱及半导体清洗设备 [P].

张朝轩 ;

巫双 ;

张明 ;

程壮壮 ;

李星 ;

王琳 ;

韩国清 .

中国专利 :CN217888866U ,2022-11-25

[7]

半导体供液装置及半导体清洗系统 [P].

周玉云 ;

冯安 .

中国专利 :CN222214121U ,2024-12-20

[8]

半导体清洗设备及半导体清洗方法 [P].

左国军 ;

范生刚 ;

马文毕 ;

王祥祥 .

中国专利 :CN118431113A ,2024-08-02

[9]

半导体清洗槽及半导体清洗设备 [P].

梁家齐 ;

赵宏宇 .

中国专利 :CN220970269U ,2024-05-17

[10]

半导体清洗设备及其补液装置 [P].

王昭 ;

王广永 .

中国专利 :CN222619692U ,2025-03-14

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