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等离子体喷涂沉积送粉装置、送粉方法以及沉积设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411884801.9
申请日：
2024-12-19
公开(公告)号：
CN119710530A
公开(公告)日：
2025-03-28
发明(设计)人：
郭洪波 白致铭 魏亮亮 何健 何雯婷 苏金宝
申请人：
北京航空航天大学
申请人地址：
100089 北京市海淀区学院路37号
IPC主分类号：
C23C4/134
IPC分类号：
代理机构：
北京华进京联知识产权代理有限公司 11606
代理人：
陈丽霞
法律状态：
公开
国省代码：
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-03-28 公开 公开
2025-04-15 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 4/134申请日:20241219
共 50 条
[1]
中空阴极轴向送粉等离子体喷涂枪 [P]. 
林烈 ;
吴彬 .
中国专利 :CN1481939A ,2004-03-17
[2]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09
[3]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13
[4]
一种等离子体送粉装置 [P]. 
余珍胜 .
中国专利 :CN217912852U ,2022-11-29
[5]
等离子体产生设备、沉积设备和沉积方法 [P]. 
中河原均 ;
佐佐木雅夫 ;
森胁崇行 ;
斋藤友康 .
中国专利 :CN101560643A ,2009-10-21
[6]
等离子体沉积设备 [P]. 
斯蒂芬·理查德·库尔森 ;
查尔斯·埃德蒙·金 .
中国专利 :CN101743071A ,2010-06-16
[7]
等离子体沉积 [P]. 
盖·詹姆斯·雷诺兹 ;
康纳·尼古拉斯·马丁 ;
彼得·格洛瓦茨基 ;
玛丽-皮埃尔·弗朗索瓦兹·温特伯特埃普富凯 ;
萨蒂亚纳拉扬·巴利克 ;
帕特里克·坡-曾·陈 .
中国专利 :CN102395704B ,2012-03-28
[8]
等离子体装置和等离子体沉积设备 [P]. 
李翔 ;
种展鹏 ;
袁红霞 ;
王娟 ;
姚俊 .
中国专利 :CN119943637B ,2025-11-04
[9]
等离子体装置和等离子体沉积设备 [P]. 
李翔 ;
种展鹏 ;
袁红霞 ;
王娟 ;
姚俊 .
中国专利 :CN119943637A ,2025-05-06
[10]
等离子体沉积方法 [P]. 
沙林达·维克拉姆·辛格 ;
理查德·安东尼·莱昂纳 .
中国专利 :CN109072425A ,2018-12-21
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