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用于形成自对准互连结构的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010748783.7
申请日
:
2020-07-30
公开(公告)号
:
CN112309963B
公开(公告)日
:
2025-04-22
发明(设计)人
:
刘如淦
张世明
伍海涛
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L21/768
IPC分类号
:
H01L23/528
代理机构
:
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
:
朱亦林
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-22
授权
授权
2025-07-25
专利权期限的补偿
专利权期限补偿IPC(主分类):H01L 21/768申请日:20200730授权公告日:20250422原专利权期满终止日:20400730现专利权期满终止日:20410422
共 50 条
[1]
用于形成自对准互连结构的方法
[P].
刘如淦
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刘如淦
;
张世明
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张世明
;
伍海涛
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伍海涛
.
中国专利
:CN112309963A
,2021-02-02
[2]
自对准互连结构及其制造方法
[P].
K·俊
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K·俊
;
S·高希
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S·高希
;
W·拉赫马迪
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W·拉赫马迪
;
A·阿格拉瓦尔
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A·阿格拉瓦尔
;
S·舒克赛
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S·舒克赛
;
J·托雷斯
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J·托雷斯
;
J·卡瓦列罗斯
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J·卡瓦列罗斯
;
M·梅茨
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M·梅茨
;
R·基奇
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R·基奇
;
K·甘古利
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K·甘古利
;
A·默西
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A·默西
.
中国专利
:CN114664789A
,2022-06-24
[3]
用于形成互连结构的方法
[P].
李伟健
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
李伟健
;
陶铮
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
陶铮
.
:CN117476545A
,2024-01-30
[4]
互连结构及互连结构的形成方法
[P].
邓浩
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邓浩
.
中国专利
:CN104299958A
,2015-01-21
[5]
形成互连结构的方法
[P].
卡利亚潘·穆图库马尔
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应用材料公司
应用材料公司
卡利亚潘·穆图库马尔
;
金龙珍
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应用材料公司
应用材料公司
金龙珍
;
卡门·莱尔·塞万提斯
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应用材料公司
应用材料公司
卡门·莱尔·塞万提斯
;
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
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应用材料公司
应用材料公司
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
;
谢祥金
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应用材料公司
应用材料公司
谢祥金
;
迈克尔·哈维蒂
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应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·哈维蒂
;
凯文·卡舍菲
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应用材料公司
应用材料公司
凯文·卡舍菲
;
马克·沙丽
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应用材料公司
应用材料公司
马克·沙丽
;
艾伦·丹格菲尔德
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应用材料公司
应用材料公司
艾伦·丹格菲尔德
;
杰苏斯·坎德拉里奥·门多萨-古铁雷斯
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
杰苏斯·坎德拉里奥·门多萨-古铁雷斯
.
美国专利
:CN118824944A
,2024-10-22
[6]
形成互连结构的方法
[P].
卡利亚潘·穆图库马尔
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应用材料公司
应用材料公司
卡利亚潘·穆图库马尔
;
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
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应用材料公司
应用材料公司
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
;
金龙珍
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应用材料公司
应用材料公司
金龙珍
;
卡门·莱尔·塞万提斯
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应用材料公司
应用材料公司
卡门·莱尔·塞万提斯
;
谢祥金
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应用材料公司
应用材料公司
谢祥金
;
杰苏斯·坎德拉里奥·门多萨-古铁雷斯
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应用材料公司
应用材料公司
杰苏斯·坎德拉里奥·门多萨-古铁雷斯
;
艾伦·丹格菲尔德
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应用材料公司
应用材料公司
艾伦·丹格菲尔德
;
迈克尔·哈维蒂
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应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·哈维蒂
;
马克·沙丽
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应用材料公司
马克·沙丽
;
凯文·卡舍菲
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
凯文·卡舍菲
.
美国专利
:CN118588634A
,2024-09-03
[7]
互连结构、包含互连结构的半导体结构及其形成方法
[P].
蔡荣洲
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蔡荣洲
;
张丰愿
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张丰愿
;
黄博祥
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黄博祥
;
刘钦洲
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刘钦洲
;
郑仪侃
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郑仪侃
.
中国专利
:CN112447669A
,2021-03-05
[8]
金属互连结构的形成方法
[P].
张城龙
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张城龙
;
胡敏达
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胡敏达
.
中国专利
:CN104051324A
,2014-09-17
[9]
互连结构及其形成方法
[P].
杨罡
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杨罡
.
中国专利
:CN111627855B
,2020-09-04
[10]
互连结构及其形成方法
[P].
袁可方
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袁可方
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周俊卿
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周俊卿
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张海洋
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张海洋
;
王智东
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王智东
.
中国专利
:CN109755175A
,2019-05-14
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