采用无磨料的铜CMP抛光液控制表面凹凸速率差的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411977078.9

申请日：

2024-12-31

公开(公告)号：

CN119776839A

公开(公告)日：

2025-04-08

发明(设计)人：

栾晓东邵沁霖樊硕晨

申请人：

江苏海洋大学

申请人地址：

222005 江苏省连云港市海州区苍梧路59号

IPC主分类号：

C23F3/04

IPC分类号：

C09G1/04

代理机构：

连云港抚正专利代理事务所(普通合伙) 32865

代理人：

黎国珍

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省连云港市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23F 3/04申请日:20241231
2025-04-08	公开	公开

共 50 条

[21]

一种处理铜/铜阻挡层抛光液的废液的方法 [P].

周文婷 ;

荆建芬 ;

王雨春 .

中国专利 :CN103803715A ,2014-05-21

[22]

一种处理铜/铜阻挡层抛光液的废液的方法 [P].

周文婷 ;

王雨春 .

中国专利 :CN104341046A ,2015-02-11

[23]

一种用于钛合金精抛的CMP抛光液及其制备方法 [P].

王海成 ;

罗浩宁 ;

姜霁涛 ;

高宇柱 ;

牛娟娟 ;

火雅茹 ;

孙蕊蕊 .

中国专利 :CN120192712A ,2025-06-24

[24]

一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法 [P].

郑伟艳 ;

曾锡强 .

中国专利 :CN103571333A ,2014-02-12

[25]

无氧铜微结构功能表面射流抛光液及抛光方法 [P].

潘国顺 ;

艾天成 ;

张馨 ;

张文静 ;

郭丹 .

中国专利 :CN113956797A ,2022-01-21

[26]

用于CMP的研磨颗粒体系及抛光液 [P].

钟旻 .

中国专利 :CN103725256A ,2014-04-16

[27]

一种金属铜的抛光液 [P].

宋伟红 ;

姚颖 ;

陈国栋 ;

包建鑫 .

中国专利 :CN101418191B ,2009-04-29

[28]

一种提高氧化层去除速率的抛光液 [P].

徐志国 ;

褚鑫 ;

李星 ;

李仕权 .

中国专利 :CN119193007A ,2024-12-27

[29]

铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101368068A ,2009-02-18

[30]

一种氧化铈制备方法及含有该氧化铈磨料的CMP抛光液 [P].

尹先升 ;

贾长征 ;

房庆华 ;

周仁杰 ;

王雨春 .

中国专利 :CN105800660A ,2016-07-27

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