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一种沟槽SiC MOSFET器件
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202422072731.9
申请日
:
2024-08-26
公开(公告)号
:
CN222967308U
公开(公告)日
:
2025-06-10
发明(设计)人
:
王正
杨程
裘俊庆
王毅
申请人
:
扬州扬杰电子科技股份有限公司
申请人地址
:
225008 江苏省扬州市邗江区平山堂北路江阳创业园三期
IPC主分类号
:
H10D62/10
IPC分类号
:
H10D30/01
H10D64/27
H10D62/832
H10D30/65
代理机构
:
扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙) 32283
代理人
:
郭翔
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 扬州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-10
授权
授权
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[1]
一种沟槽型SiC MOSFET器件
[P].
论文数:
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机构:
任敏
;
周春颖
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电子科技大学
电子科技大学
周春颖
;
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李曦
;
梁世琦
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电子科技大学
电子科技大学
梁世琦
;
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机构:
李泽宏
;
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机构:
张波
.
中国专利
:CN115101582B
,2025-09-19
[2]
一种沟槽型SiC MOSFET器件
[P].
任敏
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任敏
;
周春颖
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周春颖
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李曦
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李曦
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梁世琦
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梁世琦
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李泽宏
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李泽宏
;
张波
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张波
.
中国专利
:CN115101582A
,2022-09-23
[3]
一种SiC沟槽MOSFET器件
[P].
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机构:
陈凯
;
陈周宇
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中国科学技术大学
中国科学技术大学
陈周宇
;
吴贤勇
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中国科学技术大学
中国科学技术大学
吴贤勇
.
中国专利
:CN222442147U
,2025-02-07
[4]
一种双沟槽SiC MOSFET器件
[P].
李明玥
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李明玥
;
刘东
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刘东
;
鲁啸龙
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鲁啸龙
;
卢山
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卢山
;
欧阳杰
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欧阳杰
;
廖云滔
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廖云滔
;
彭莉莎
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彭莉莎
;
胡夏融
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胡夏融
.
中国专利
:CN115528090A
,2022-12-27
[5]
一种具有双栅极沟槽的SiC MOSFET器件
[P].
马鸿铭
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机构:
北京昕感科技有限责任公司
北京昕感科技有限责任公司
马鸿铭
;
钟炜
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北京昕感科技有限责任公司
北京昕感科技有限责任公司
钟炜
;
王哲
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北京昕感科技有限责任公司
北京昕感科技有限责任公司
王哲
.
中国专利
:CN222602900U
,2025-03-11
[6]
一种微沟槽SiC MOSFET器件及制备方法
[P].
王正
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扬州扬杰电子科技股份有限公司
扬州扬杰电子科技股份有限公司
王正
;
杨程
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扬州扬杰电子科技股份有限公司
扬州扬杰电子科技股份有限公司
杨程
;
裘俊庆
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扬州扬杰电子科技股份有限公司
扬州扬杰电子科技股份有限公司
裘俊庆
;
王毅
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扬州扬杰电子科技股份有限公司
扬州扬杰电子科技股份有限公司
王毅
.
中国专利
:CN119050149A
,2024-11-29
[7]
一种沟槽型SiC MOSFET器件
[P].
陈伟铭
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国网福建省电力有限公司电力科学研究院
国网福建省电力有限公司电力科学研究院
陈伟铭
;
陈石川
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国网福建省电力有限公司电力科学研究院
国网福建省电力有限公司电力科学研究院
陈石川
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范元亮
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国网福建省电力有限公司电力科学研究院
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范元亮
;
李泽文
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李泽文
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黄兴华
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黄兴华
;
林建利
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林建利
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骆健
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骆健
.
中国专利
:CN118712232B
,2025-10-17
[8]
一种沟槽型SiC MOSFET器件
[P].
陈伟铭
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国网福建省电力有限公司电力科学研究院
国网福建省电力有限公司电力科学研究院
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范元亮
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李凌斐
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王健
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王健
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张延辉
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朱郑允
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高明阳
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王谦
;
骆健
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机构:
国网福建省电力有限公司电力科学研究院
国网福建省电力有限公司电力科学研究院
骆健
.
中国专利
:CN118712232A
,2024-09-27
[9]
一种SiC沟槽MOSFET器件及其制造方法
[P].
张跃
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张跃
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张腾
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张腾
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柏松
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柏松
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黄润华
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黄润华
.
中国专利
:CN115148820A
,2022-10-04
[10]
一种沟槽SiC MOSFET器件及其制备方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
田亮
;
论文数:
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机构:
张清纯
.
中国专利
:CN120813010A
,2025-10-17
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