一种大尺寸高均匀性的等离子刻蚀机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421829590.4

申请日：

2024-07-31

公开(公告)号：

CN222838789U

公开(公告)日：

2025-05-06

发明(设计)人：

张松林王超

申请人：

成都超迈光电科技有限公司

申请人地址：

610000 四川省成都市成都经济技术开发区（龙泉驿区）南一路1024号4栋5层503号附519-521号

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

成都初阳知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51305

代理人：

邓金涛

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-06	授权	授权

共 50 条

[1]

一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机 [P].

全宰弘 ;

陈欣鑫 .

中国专利 :CN221125876U ,2024-06-11

[2]

一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机 [P].

刘传钦 .

中国专利 :CN120545161B ,2025-10-03

[3]

一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机 [P].

刘传钦 .

中国专利 :CN120545161A ,2025-08-26

[4]

一种等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘海洋 ;

王铖熠 ;

李娜 ;

刘小波 ;

张军 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN211629034U ,2020-10-02

[5]

一种适应性耦合等离子刻蚀机 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203910743U ,2014-10-29

[6]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973A ,2024-09-20

[7]

一种挡环装置、等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子刻蚀机 [P].

郭颂 ;

刘小波 ;

陈兆超 ;

车东晨 ;

叶联 ;

刘磊 ;

刘海洋 ;

胡冬冬 ;

许开东 .

中国专利 :CN117352355A ,2024-01-05

[8]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973B ,2025-06-17

[9]

一种等离子刻蚀机 [P].

孙显强 .

中国专利 :CN205944037U ,2017-02-08

[10]

一种等离子刻蚀机 [P].

梁亚 ;

梁志强 .

中国专利 :CN108470671A ,2018-08-31

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