半导体器件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202311460246.2
申请日
2023-11-03
公开(公告)号
CN119967829A
公开(公告)日
2025-05-09
发明(设计)人
施金汕 黄琳洁 朱春林 姜克
申请人
安世半导体科技(上海)有限公司 安世有限公司
申请人地址
200025 上海市黄浦区局门路458号201室
IPC主分类号
H10D12/00
IPC分类号
H10D12/01
代理机构
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
麦善勇;张天舒
法律状态
公开
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
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尹汝祖 .
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半导体器件和制造半导体器件的方法 [P]. 
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