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一种图形化衬底的制备方法及图形化衬底
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510166695.9
申请日
:
2025-02-14
公开(公告)号
:
CN119997679A
公开(公告)日
:
2025-05-13
发明(设计)人
:
赖世国
康凯
张小琼
王农华
刘青
申请人
:
广东中图半导体科技股份有限公司
申请人地址
:
523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
IPC主分类号
:
H10H20/01
IPC分类号
:
H10H20/819
H10H20/84
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
魏亚南
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
河北省 保定市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-05-30
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10H 20/01申请日:20250214
2025-05-13
公开
公开
共 50 条
[1]
一种图形化衬底的制备方法及图形化衬底
[P].
张博业
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张博业
;
宋得林
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宋得林
.
中国专利
:CN105336824A
,2016-02-17
[2]
一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片
[P].
范绅钺
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范绅钺
;
田晓强
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田晓强
;
梁毅
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梁毅
;
李孟轩
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李孟轩
;
文国昇
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文国昇
.
中国专利
:CN114823994A
,2022-07-29
[3]
一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片
[P].
范绅钺
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机构:
江西兆驰半导体有限公司
江西兆驰半导体有限公司
范绅钺
;
田晓强
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机构:
江西兆驰半导体有限公司
江西兆驰半导体有限公司
田晓强
;
梁毅
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机构:
江西兆驰半导体有限公司
江西兆驰半导体有限公司
梁毅
;
李孟轩
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机构:
江西兆驰半导体有限公司
江西兆驰半导体有限公司
李孟轩
;
文国昇
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机构:
江西兆驰半导体有限公司
江西兆驰半导体有限公司
文国昇
.
中国专利
:CN114823994B
,2025-08-26
[4]
一种GaN图形化衬底的制备方法及GaN图形化衬底
[P].
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机构:
张敏
;
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刘强
;
姜永京
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机构:
北京大学东莞光电研究院
北京大学东莞光电研究院
姜永京
;
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机构:
刘南柳
;
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机构:
王琦
;
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机构:
王新强
;
肖继宗
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北京大学东莞光电研究院
北京大学东莞光电研究院
肖继宗
;
谢胜杰
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机构:
北京大学东莞光电研究院
北京大学东莞光电研究院
谢胜杰
;
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机构:
张国义
.
中国专利
:CN121152272A
,2025-12-16
[5]
用于蓝宝石衬底的图形化结构及图形化衬底
[P].
霍曜
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霍曜
;
李彬彬
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李彬彬
;
吴福仁
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吴福仁
;
李瑞评
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李瑞评
.
中国专利
:CN216818362U
,2022-06-24
[6]
一种图形化衬底及图形化衬底的加工方法
[P].
马亮
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马亮
;
胡兵
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胡兵
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裴晓将
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裴晓将
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李金权
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李金权
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刘素娟
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刘素娟
.
中国专利
:CN104319324A
,2015-01-28
[7]
一种图形化衬底、LED外延片及图形化衬底制备方法
[P].
付星星
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付星星
;
康凯
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康凯
;
陆前军
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陆前军
.
中国专利
:CN110797442A
,2020-02-14
[8]
图形化衬底的表面处理方法和图形化衬底的刻蚀方法
[P].
张师杰
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
张师杰
.
中国专利
:CN118825146A
,2024-10-22
[9]
一种图形化衬底
[P].
孙永健
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孙永健
;
张国义
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张国义
;
贾传宇
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贾传宇
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于彤军
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于彤军
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徐承龙
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徐承龙
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童玉珍
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童玉珍
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廉宗隅
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廉宗隅
.
中国专利
:CN102201512B
,2011-09-28
[10]
介质图形化衬底结构
[P].
郝茂盛
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郝茂盛
;
吴昊
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吴昊
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马艳红
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马艳红
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陈朋
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陈朋
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张楠
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张楠
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袁根如
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袁根如
.
中国专利
:CN215668289U
,2022-01-28
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