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钛和氮化钛的叠层的刻蚀压力确定方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311453235.1
申请日：
2023-11-02
公开(公告)号：
CN119943702A
公开(公告)日：
2025-05-06
发明(设计)人：
何鹏飞
杨啸
申请人：
格科半导体（上海）有限公司
申请人地址：
201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区新元南路198号
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
吴敏
法律状态：
公开
国省代码：
上海市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-05-06 | 公开 | 公开 |
| 2025-05-23 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20231102 |