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晶圆预处理装置及晶圆处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510668802.8
申请日
:
2025-05-23
公开(公告)号
:
CN120184067A
公开(公告)日
:
2025-06-20
发明(设计)人
:
梁德富
田玉峰
申请人
:
江苏无锡经纬天地半导体科技有限公司
申请人地址
:
214000 江苏省无锡市锡山区锡北东青河路3号4#楼
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
H01L21/687
B08B3/02
B08B11/02
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
汪莉萍
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-20
公开
公开
2025-07-25
授权
授权
2025-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20250523
共 50 条
[1]
晶圆预处理装置及晶圆处理方法
[P].
梁德富
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
江苏无锡经纬天地半导体科技有限公司
江苏无锡经纬天地半导体科技有限公司
梁德富
;
田玉峰
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机构:
江苏无锡经纬天地半导体科技有限公司
江苏无锡经纬天地半导体科技有限公司
田玉峰
.
中国专利
:CN120184067B
,2025-07-25
[2]
晶圆预处理方法及晶圆预处理装置
[P].
俞铭洋
论文数:
0
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0
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
俞铭洋
;
张超
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
张超
;
刘奇
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
刘奇
;
王世宽
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
王世宽
;
宋永辉
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
宋永辉
.
中国专利
:CN117995657B
,2024-06-04
[3]
晶圆预处理方法及晶圆预处理装置
[P].
俞铭洋
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
俞铭洋
;
张超
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
张超
;
刘奇
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
刘奇
;
王世宽
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
王世宽
;
宋永辉
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机构:
无锡尚积半导体科技有限公司
无锡尚积半导体科技有限公司
宋永辉
.
中国专利
:CN117995657A
,2024-05-07
[4]
晶圆处理方法及晶圆处理装置
[P].
王剑平
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王剑平
;
陈建宏
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陈建宏
;
篮国玮
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篮国玮
;
操津津
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操津津
.
中国专利
:CN113707543A
,2021-11-26
[5]
晶圆处理装置及晶圆处理方法
[P].
董佳仁
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董佳仁
.
中国专利
:CN112768369A
,2021-05-07
[6]
晶圆处理方法及晶圆处理设备
[P].
张武鑫
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机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
张武鑫
;
叶振鹏
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机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
叶振鹏
;
李朋
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机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
李朋
;
周鹏
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机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
周鹏
;
郝斌荣
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机构:
宁波润华全芯微电子设备有限公司
宁波润华全芯微电子设备有限公司
郝斌荣
.
中国专利
:CN121096937A
,2025-12-09
[7]
晶圆热处理装置及晶圆热处理方法
[P].
孙璐
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孙璐
;
颜元
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颜元
;
刘修忠
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刘修忠
.
中国专利
:CN110707028A
,2020-01-17
[8]
晶圆基座及晶圆处理装置
[P].
王昕昀
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王昕昀
;
吴孝哲
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吴孝哲
;
胡广严
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胡广严
;
吴龙江
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吴龙江
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN208743270U
,2019-04-16
[9]
晶圆自动处理方法及晶圆自动处理装置
[P].
杨鹏
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杨鹏
;
高彪
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高彪
;
吴立伟
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吴立伟
;
王文毅
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王文毅
.
中国专利
:CN113035733B
,2021-06-25
[10]
晶圆处理方法及晶圆处理装置
[P].
姜福来
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
姜福来
.
中国专利
:CN119045284A
,2024-11-29
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