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半导体装置及半导体装置的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380083759.8
申请日
:
2023-12-18
公开(公告)号
:
CN120323103A
公开(公告)日
:
2025-07-15
发明(设计)人
:
黑崎大辅
田边美和
保本清治
肥冢纯一
申请人
:
株式会社半导体能源研究所
申请人地址
:
日本神奈川县厚木市
IPC主分类号
:
H10D30/67
IPC分类号
:
G09F9/30
H10D30/01
H10D84/01
H10D84/03
H10D84/83
H10D84/80
H10F39/12
H05B33/14
H10K39/32
H10K39/34
H10K50/10
H10K59/12
H10K59/123
H10K59/124
H10K71/00
H10K71/60
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
何欣亭;刘春元
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-15
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
田丸尊也
论文数:
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
田丸尊也
;
津吹将志
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
津吹将志
;
渡壁创
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
渡壁创
;
佐佐木俊成
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
佐佐木俊成
.
日本专利
:CN119343997A
,2025-01-21
[2]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
望月真里奈
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
望月真里奈
;
渡部将弘
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
渡部将弘
;
津吹将志
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
津吹将志
;
渡壁创
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
渡壁创
;
佐佐木俊成
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
佐佐木俊成
;
田丸尊也
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
田丸尊也
;
小野寺凉
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机构:
株式会社日本显示器
株式会社日本显示器
小野寺凉
.
中国专利
:CN118738138A
,2024-10-01
[3]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
岛行德
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岛行德
;
冈崎健一
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冈崎健一
.
中国专利
:CN115362561A
,2022-11-18
[4]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
须泽英臣
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须泽英臣
;
笹川慎也
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笹川慎也
;
仓田求
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仓田求
;
津吹将志
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津吹将志
.
中国专利
:CN103681805B
,2014-03-26
[5]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
肥冢纯一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
肥冢纯一
;
冈崎健一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
冈崎健一
;
岛行德
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
岛行德
;
中泽安孝
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
中泽安孝
;
保坂泰靖
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
保坂泰靖
;
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
.
日本专利
:CN118748210A
,2024-10-08
[6]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
岛行德
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
岛行德
;
冈崎健一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
冈崎健一
.
日本专利
:CN117878159A
,2024-04-12
[7]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
肥冢纯一
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肥冢纯一
;
冈崎健一
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冈崎健一
;
岛行德
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岛行德
;
中泽安孝
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中泽安孝
;
保坂泰靖
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保坂泰靖
;
山崎舜平
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山崎舜平
.
中国专利
:CN108538916A
,2018-09-14
[8]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
须泽英臣
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须泽英臣
;
笹川慎也
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笹川慎也
;
仓田求
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仓田求
;
津吹将志
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津吹将志
.
中国专利
:CN108962998A
,2018-12-07
[9]
半导体装置、存储装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
井坂史人
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
井坂史人
;
佐藤优一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
佐藤优一
;
大野敏和
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
大野敏和
;
国武宽司
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
国武宽司
;
村川努
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
村川努
.
日本专利
:CN119031706A
,2024-11-26
[10]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
林俊成
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林俊成
.
中国专利
:CN101840863A
,2010-09-22
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