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干蚀刻机下电极和干蚀刻机

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202422193311.6
申请日：
2024-09-06
公开(公告)号：
CN223092811U
公开(公告)日：
2025-07-11
发明(设计)人：
焦恩吉
申请人：
昆山龙腾光电股份有限公司
申请人地址：
215301 江苏省苏州市昆山开发区龙腾路1号
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
苏舒音
法律状态：
授权
国省代码：
江苏省 苏州市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-11 授权 授权
共 50 条
[1]
干蚀刻机及干蚀刻机的下电极 [P]. 
张占东 .
中国专利 :CN105428197A ,2016-03-23
[2]
干蚀刻机及干蚀刻机的下电极 [P]. 
曾瑞轩 ;
林志明 .
中国专利 :CN103903953A ,2014-07-02
[3]
下电极及干蚀刻机 [P]. 
季黎明 .
中国专利 :CN108711546A ,2018-10-26
[4]
干蚀刻机 [P]. 
朱麟 .
中国专利 :CN214378322U ,2021-10-08
[5]
干式蚀刻机 [P]. 
王雪刚 ;
寇鸿斌 ;
喻如军 .
中国专利 :CN207487966U ,2018-06-12
[6]
一种陶瓷结构、下电极及干蚀刻机 [P]. 
孟益 .
中国专利 :CN207743194U ,2018-08-17
[7]
壳体组件和干蚀刻机 [P]. 
刘志豪 ;
杨建 ;
刘亚兵 .
中国专利 :CN207338297U ,2018-05-08
[8]
用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台 [P]. 
张佳 ;
张占东 .
中国专利 :CN107393803A ,2017-11-24
[9]
等离子干蚀刻机 [P]. 
杨建 ;
王雪刚 ;
寇鸿斌 .
中国专利 :CN207217464U ,2018-04-10
[10]
包括蚀刻装置和清洗装置的干蚀刻机 [P]. 
崔载铉 .
中国专利 :CN101117714A ,2008-02-06
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